Mấy bữa này Học Vi Mạch Cùng ICTC đọc được năng lực quang khắc (lithography) của Trung Quốc đang tụt hậu khoảng 20 năm so với ASML. Công ty Hà Lan đang nắm giữ vị trí thống trị tuyệt đối trong lĩnh vực này. Dù Trung Quốc đã đầu tư mạnh vào các doanh nghiệp trong nước như SMIC, Huawei hay nhiều viện nghiên cứu quốc gia, nhưng khả năng đuổi kịp công nghệ EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) trong 5-10 năm tới gần như là điều không thể.
Công nghệ EUV là một tổ hợp cực kỳ phức tạp. Mỗi bộ phận trong hệ thống đều là một kỳ tích công nghệ riêng: từ gương quang học đạt độ chính xác nanomet, nguồn sáng plasma công suất cực cao, môi trường chân không tuyệt đối, cho đến hệ thống căn chỉnh và điều khiển chính xác vi mô. Mỗi yếu tố này đòi hỏi hàng chục năm nghiên cứu, tinh chỉnh và thử nghiệm.
Bên cạnh đó, ASML không hoạt động một mình. Công ty hình thành một mạng lưới hợp tác chặt chẽ gồm những đối tác hàng đầu thế giới: Zeiss (Đức) cung cấp hệ thống quang học, Cymer (Mỹ) cung cấp nguồn sáng, và Trumpf (Đức) sản xuất laser công suất cao. Sự phối hợp giữa các đối tác này tạo nên một chuỗi giá trị tích hợp gần như không thể sao chép.
Trong khi đó, ASML đã dành hơn 20 năm và hàng nghìn kỹ sư để phát triển EUV từ giai đoạn ý tưởng đến thương mại hóa. Trung Quốc và các nước khác đang bắt đầu rất muộn, khiến việc học bằng trải nghiệm (learning by doing) trở nên hạn chế. Chưa kể, các lệnh kiểm soát xuất khẩu của Hoa Kỳ khiến Trung Quốc không thể tiếp cận các thiết bị tiên tiến nhất của ASML, càng làm chậm tiến trình phát triển.
Vào thập niên 1990, ASML chỉ là một công ty nhỏ tách ra từ Philips, trong khi thị trường lithography toàn cầu bị thống trị bởi Nikon và Canon của Nhật Bản. Tuy nhiên, bước ngoặt xảy ra vào những năm 2000, khi Nikon và Canon tập trung vào công nghệ DUV (Deep Ultraviolet), còn ASML quyết định đặt cược toàn bộ vào EUV.
ASML đã thành lập “Liên minh công nghiệp EUV”, bao gồm những cái tên lớn như IMEC, Zeiss, Cymer, Intel, TSMC, Samsung, cùng hợp tác nghiên cứu và chia sẻ chi phí phát triển. Đến những năm 2010, ASML trở thành công ty duy nhất dồn toàn lực cho EUV, trong khi các đối thủ Nhật Bản đã bỏ lỡ thời cơ.
Năm 2017, hệ thống EUV đầu tiên NXE:3400B chính thức được giao cho TSMC và Samsung. Hai năm sau, TSMC đưa EUV vào sản xuất hàng loạt ở tiến trình 7nm+, đánh dấu bước ngoặt lịch sử: ASML trở thành nhà cung cấp độc quyền thiết bị lithography tiên tiến nhất thế giới. Đến 2025, ASML vẫn là nhà cung cấp duy nhất của hệ thống EUV và High-NA EUV, chiếm hơn 90% thị phần toàn cầu, tức là độc quyền gần như tuyệt đối.
Giai đoạn 2000–2019 là thời kỳ then chốt giúp ASML tạo nên lợi thế vượt trội. Trong gần hai thập kỷ, họ không chỉ phát triển công nghệ mà còn xây dựng một hệ sinh thái công nghiệp hoàn chỉnh, nơi mọi đối tác đều phụ thuộc lẫn nhau để cùng tiến bộ. Chính sự gắn kết chặt chẽ này khiến bất kỳ nỗ lực sao chép nào của các quốc gia khác đều gặp khó khăn lớn.
Trên lý thuyết, chỉ những công nghệ đột phá hoàn toàn mới, như X-ray lithography, E-beam lithography, hay Nanoimprint Lithography (NIL) mới có thể thách thức vị thế của ASML. Tuy nhiên, khả năng một trong số này đạt được quy mô thương mại trong 10 năm tới vẫn cực kỳ thấp.
